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開啟式管式爐

簡要描述:開啟式管式爐
在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,使反應室氣體發生輝光放電,在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,它與氣體分子相碰撞,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,并發生化學反應生成介質膜,副產物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。

  • 更新時間:2020-11-20
  • 瀏覽次數:1706
  • 產品地址:上海市青浦區華新鎮嘉松中路518號A205
  • 產品分類:開啟式管式爐

詳細介紹

品牌其他品牌產地類別國產
應用領域醫療衛生,環保,化工,生物產業

開啟式管式爐

在真空壓力下,加在電感線圈的射頻電場,使反應室氣體發生輝光放電,在輝光發電區域產生大量的電子。這些電子在電場的作用下獲得充足的能量,其本身溫度很高,它與氣體分子相碰撞,使氣體分子活化。它們吸附在襯底上,并發生化學反應生成介質膜,副產物從襯底上解吸,隨主氣流由真空泵抽走,稱為等離子體增強化學氣相沉(PECVD)。

PECVD開啟式管式爐系統由開啟式管式爐、高真空分子泵系統、射頻電源系統及多通道高精度數字質量流量控制系統組成,是實驗室生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等的理想選擇。

開啟式管式爐系統主要功能和特點:

1、PECVD具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等;

2、PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子,就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應;

3、借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜;

4、高真空系統由雙級旋片真空泵和分子泵組成,真空可達0.001Pa;

5、數字質量流量控制系統是由多路質量流量計,流量顯示儀等組成,實現氣體的流量的精密測量和控制;

6、每條氣體管路均配備高壓逆止閥,保證系統的安全性和連續均勻性;

7、采用KF快速法蘭密封,裝卸方便快捷;

8、管路采用世界*Swagelok卡套連接,不漏氣;

9、超溫、過壓時,自動切斷加熱電源及流量計進氣,使用安全可靠。

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